Dr. techn. Daniel Schiochet Nasato

Lehrstuhl für Systemverfahrenstechnik
Gregor-Mendel-Straße 4
85354 Freising
Raum: EG 07
Tel: +49 8161 71-3273
Fax: +49 8161 71-4510

Kurzbiographie:

Seit 2019Wissenschaftlicher Mitarbeiter am Lehrstuhl für Systemverfahrenstechnik, Technische Universität München
2016-20192016 - 2019    Post-Doc – Freidrich Alexander University (FAU), Erlangen, Deutschland
2012-2016Promotion zum Dr.techn. – Johannes Kepler University (JKU), Linz, Österreich
2008-2011Masters Chemieingenieur – Staatliche Universität Campinas (UNICAMP), Campinas, Brasilien
2007-2012Business Analyst – Engineering Simulation and Scientific Software (ESSS), São Paulo, Brasilien
2003-2007Bachelor Chemieingenieur – Bundesuniversität Santa Catarina (UFSC), Florianópolis, Brasilien

Interessen:

Pulvertechnologie, Granulare Materie, Numerische Simulation, DEM, CFD-DEM

Publikationen:

Die gibt es hier.